足部数字化测量系统，一般有两大类，分别为足底压力分布系统（足底压力板）、3D足部扫描仪。

足底压力分布系统，主要测量人在行走、静止站立等运动状态下的足底各部位的压力分布等数据，而3D足部扫描仪主要是测量静止站立或者非负重状态下（坐着测量）的足部形态数据，主要是测三维数据。

这两种设备，都可以进行高足弓和扁平足的评估。

目前市面上，进行扁平足、高足弓量化的常用量化指标有以下这几个：

1、足弓指数AI（Arch Index，面积法，最常用）。

其计算公式是为：AI = 中足接触面积 ÷ 去除脚趾后的足底总面积

 AI ＜0.21，则被评测为高足弓，此时中足几乎不触地，足印中段断开，

0.21 ≤ AI ≤0.26，则被评测为正常足弓

AI ＞0.26，则被评测为扁平足；数值越大意味着塌陷越严重。

2、足弓高度指数 AHI。

其计算公式如下：

AHI = 足弓最高点垂直高度 ÷ 足长。

 AHI低于正常值，则被评测为扁平足。

 AHI高于正常值，则被评测为高足弓。

3、Chippaux-Smirak 指数（CSI）。

CSI的计算方式如下：

CSI = 中足最窄宽度 ÷ 前足最大宽度。

当CSI＞45%，则被判断为扁平足。

当CSI＜25%，则被判断为高足弓。

扁平足和高足弓，在足底压力分布系统和足底三维扫描仪中，我们都可以看到不同的数字化特质。

在足底压力分布系统中，扁平足的压力图是中足压力明显增高，高足弓的压力图是压力集中在前掌和足跟。

在3d足部扫描仪中，从3D形态图，扁平足的足弓高度明显下降，高足弓的足弓高度明显升高。

不过，足底压力分布系统可以进行动态测量，可以采集一整个步态周期的压力变化，这样可以更全面的评估足部的健康情况。

当然，对于大部分应用场景，足部三维扫描仪也足以评测扁平足、高足弓等足部畸形情况。

在很多应用场景中，足部三维扫描仪和足底压力分布系统是结合使用的，比如在定制鞋垫、定制鞋设计与制作时，常需要两者结合测量并进行个性化设计以及矫正设计，利用足部三维数据进行建模，足底压力数据进行设计足部支撑和缓存设计。

不过，要注意的是：数字化设备属于筛查工具，不能直接等同于医学诊断；若要确诊结构性扁平足 / 高弓足，骨科医生会结合查体 + 足部 X 光片综合判断。